技术简介：一种立体雕刻一次成型技术，属于立体真像雕刻艺术领域。本发明所提供的是一种不需经过艺术家的小稿创造、放大泥稿及制模、铸型等过程而实现立体雕刻技术。该技术是将原体置于一个摄影台上进行照像，然后将底片放大，把照片上的剖面线描绘在雕刻材料上，然后进行雕刻、修整、表面涂色及上光等过程来实现立体雕刻技术。该方法工序简单，效率高，该技术适用于任何静态和动态形体的复制过程，其复制品与原体比例相同，不失真，不变形，对于具有雕刻一般知识的普通人员即可掌握。一种立体雕刻一次成型技术，其特征是该技术由下述步骤完成： ａ：将所需雕刻的原体置于一个两则由栅板和光源组成的摄影台上，打开两侧光源，则栅板在原体表面上的投影形成一组对应的剖面线； ｂ：对所需雕刻原体及其上形成的剖面线进行照像； ｃ：将底片进行放大，得到带有剖面线的照片； ｄ：根据照片上的剖面线在雕刻材料（圆柱形或方体形）上进行描线； ｅ：将上步所描剖面线刻成阶梯型，相邻阶梯间垂直距离与栅板上相邻两条缝隙距离相对应；ｆ：将上步相邻阶梯间多余部分剔除，使相邻阶梯间形成光滑过渡，然后对整体雕像进行修整； ｇ：对上步雕像进行表面涂色，上光处理，即可得到与原体完全相同的雕像。