技术简介：一种纳米氧化钴的制造方法，其特点是采用硝酸或硫酸溶解金属钴，并在表面活性剂存在下，用碳酸氢盐反应生成碳酸钴，再经过滤、洗涤、焙烧等工序制造出纳米级氧化钴粉末，其颗粒粒径为５～６０ｍｍ，纯度高，杂质含量少，具有球形和高比表面积等特点，符合电子级粉体材料的要求，可以广泛用于电气、化工及合金材料领域。一种纳米氧化钴的制造方法 （１）钴盐溶液的配制 采用硝酸或硫酸溶解金属钴，生成硝酸钴或硫酸钴水溶液，溶液中钴含量为５０～３００克／升，游离酸控制在２０克／升以下， （２）碳酸氢盐溶液的配制 将碳酸氢盐配制成５～４０％的水溶液， （３）碳酸钴的制备 将配制的硝酸钴或硫酸钴水溶液加入带有搅拌器和温度计的反应釜中，在搅拌下于温度４０～１００℃加入碳酸氢盐溶液反应生成碳酸钴料浆， （４）碳酸钴料浆过滤、洗涤 将碳酸钴料浆过滤，并用沸（热）水洗涤， （５）碳酸钴的焙烧 将洗涤好的碳酸钴置入焙浇炉中，于温度３００～５５０℃，焙烧５～２５小时，获得纳米级氧化钴粉末，其颗粒粒径为５～６０ｎｍ， 其特征在于碳酸钴的制备时，在硝酸钴或硫酸钴的水溶液中引入表面活性剂，用量为溶液中钴含量的０．０１％～１０％。