技术简介：本发明涉及一种给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法，镀膜是在真空中在薄金属片上溅射上一层金属化合物。薄金属片在压力为10-3至10-2毫巴的氩等离子体中、以等离子体离子的可变流量率和可变能量被处理可变的时间。借助于至少一个含铬或含铬合金的靶子的反应性磁控管雾化而把一层氧化铬层或含氧化铬的层连续地溅射上去的。该膜层是在压力为10-3至10-2毫巴的氩－氧混合气中用至少一个雾化源溅射上去的。在给薄金属片镀膜时，工作点被恒定地保持在规定的限界内，薄金属片被确定地与热缓冲物作热接触。薄金属片的镀膜一直要继续到其上的膜达到一阶或二阶干涉的指定干涉色为止。权 利 要 求 书 1．一种给由镍或镍合金组成的薄金属片镀膜的方法，该薄金属片优选是用电镀法制成的，镀膜是在真空中在薄金属片的至少一面的面积上，溅射一层金属化合物的膜，该方法的特征在于： -该薄金属片在压力为10-3至10-2毫巴下，在氩等离子体中，以等离子体离子的流量和能量均可调节的方式被处理以可调节的时间； -溅射氧化铬膜的方法是在氩氧混合气中、在压力为10-3至10-2 毫巴下、使用至少一个溅射源、借助于至少一个铬或含铬合金制的靶子作反应性磁控管溅射而完成，工作点被保持恒定在规定的限度内； -在镀膜时，薄金属片以规定的热接触被连结到热缓冲物上；以及 -薄金属片的镀膜一直继续到达到一阶或二阶干涉的干涉色为止。