技术简介：本发明提供一种磁盘用微晶玻璃基片，适用于接触记录方式，具有１０Ａ以下的表面粗糙度和较高的磨损性。基片的构成是，微晶玻璃的主结晶相为α－方晶石（α－ＳｉＯ2)和二硅酸锂(Li2O·2SiO2)，该结晶相的构成比α－方晶石／二硅酸锂为０．２５—０．３５，晶粒的粒径为０．１—１．０μｍ，磁盘基片的研磨表面粗糙度（Ｒａ）为２—１０Ａ，且，磨损度（Ａａ）为５—１５之间。一种磁盘用微晶玻璃基片，其特征是微晶玻璃的主结晶相为α－方晶石（α－ＳｉＯ↓［２］）和二硅酸锂（Ｌｉ↓［２］Ｏ·２ＳｉＯ↓［２］），该结晶相的构成比α－方晶石／二硅酸锂为０．２５－０．３５，结晶粒的粒径为０．１－１．０μｍ，磁盘基片的研磨表面粗糙度（Ｒａ）为２－１０＊，且，磨损度（Ａａ）为５－１５之范围。