硬表面去污上光剂

技术简介:本发明涉及一种硬表面去污上光剂。其技术特征在于它是由15~35%的含硅阳乳液,4~15%的十二~十八烷基硫酸钠,3~7%的平平加,2~7%的司盘以及余量为去离子水相构成的。其制备工艺为将去离水和平平加加入到反应釜中强烈搅拌25~40分钟,再慢慢的加入含硅阳乳液,在加入含硅阳乳液的同时,要不停的进行搅拌。以后再依次加入司盘和十二~十八烷基硫酸钠。本发明具有去污和上光于一体的优点。且对硬表面去污的同时,不造成任何的损伤。一种硬表面去污上光剂,其特征在于它是由15~35%的含硅阳乳液,4~15%的十二~十八烷基硫酸钠,3~7%的平平加、2~7%的司盘(Span)以及余量去离子水相构成。

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