技术简介：α－ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料的制备方法，是一种制备光学镀膜材料的新的工艺方法，它省去了通常制备玻璃态ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料需在１７００℃以上高温熔融的复杂的工艺流程，代之而来的制备结晶态α－ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料，只需在较低温度不超过６００℃的条件下进行热处理即可获得镀膜效果极佳的光学镀膜材料。大幅度地降低了光学镀膜材料的制备成本、具有显著的经济效益。α－ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料的制备方法及α－ＳｉＯ↓［２］材料，是通过矿石精选、清洁处理、烘干、粉碎过筛、高温处理实现的，其特征在于：要求粉碎机和筛子的材质采用硬质材料制成，并对α－ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料无污染，筛网的孔从小至大形成系列，以满足所需光学镀膜材料的粒度要求，根据粒度大小的要求，选用适合的筛孔过筛，对过筛的α－ＳｉＯ↓［２］用高纯度水去粉未清洗后再进行热处理，即将α－ＳｉＯ↓［２］装在对α－ＳｉＯ↓［２］料无污染的坩埚里，并将装满α－ＳｉＯ↓［２］料的坩埚放进大气加热炉中进行热处理，热处理的温控－时间曲线由图２所示，从室温匀速升温４小时以上，温度升至５７０℃－６００℃，再恒温处理８小时以上，接着是均速降温２４小时以上，最后是对经过热处理的α－ＳｉＯ↓［２］进行质量筛选，把变色的含有杂复的α－ＳｉＯ↓［２］全部去掉。