技术简介：水处理剂进料的目标物质响应调节是通过监测被研究的目标物质指示剂而达到的。从系统的取样中选取一种目标物质作为被研究的目标物质指示剂，或者将一种起始试剂加入系统样品中以形成一种被研究的目标物质指示剂。这样形成的被研究的目标物质指示剂含有该起始试剂和一种目标物质的结合物。然后通过样品的荧光分析来测定至少一个可与目标物质的系统内浓度相关的荧光发射数值，从而监测被研究的目标物质指示剂。结合使用惰性示踪剂，就可以测定目标物质的系统消耗，并可进行水处理剂系统内浓度的响应调节。一种在工业流体系统中调节水处理剂系统内浓度的方法，其特征在于，向工业流体系统中加入一种惰性示踪剂，该惰示示踪剂事先已按已知的比例加入到同样要加入到所说的工业流体系统的目标物质中，其中，目标物质的系统消耗受到水处理剂的影响，从所说的工业流体系统中抽取流体样品，通过分析所说的样品来测定至少一个与所说目标物质的系统内浓度相关的特性，从而监测目标物质，通过分析所说的样品来测定所说惰性示踪剂的系统内浓度，从而监测所说的惰性示踪剂，根据目标物质的系统消耗来调节流体系统中水处理剂的系统内浓度。