技术简介：用于碱性氯化氨合铜水性蚀刻浴(12)的铜蚀刻液添加剂(18)包括数种化合物,其中每一种都表现出可稳定亚铜的价态的作用。本发明发现的化合物包含有碘离子、诸如碘化钾、碘化铵、碘化钠、碘化钙和碘化镁。本发明发现的其它亚铜稳定剂包括某些含硫的水溶性盐,如硫氰酸根离子(如硫氰酸铵、硫氰酸钾、硫氰酸钠、硫氰酸镁和硫氰酸钙)和硫代硫酸根离子(如硫代硫酸铵、硫代硫酸钾、硫代硫酸钠、硫代硫酸镁和硫代硫酸钙)。对采用不同浓度碘化钾、硫氰酸铵和硫代硫酸钠的碱性氯化氨合铜的蚀刻速率做了考察。对比实验的结果表明,以最高达约1200mg/L的浓度向该碱性氯化氨合铜蚀刻剂中加入任一种上述化合物,都会使得蚀刻速率提高20—130%。一种含有促进蚀刻的添加剂的碱性氯化氨合铜水性蚀刻浴，所述添加剂选自亚铜稳定剂，所述添加剂的存在量足以使所述浴的蚀刻速率比不含所述添加剂的同样的蚀刻浴提高至少４０％。