技术简介：本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀膜机，由真空室和传输机构组成。其中真空室包括前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室，真空室内设置有加热装置和溅射靶、偏压装置，在前锁室上开有入口，后锁室上开有出口，在真空室壁上设有穿越口。本实用新型具有长度尺寸小，从而投资小，生产节拍快，具有多种功能，既可以镀热反射玻璃，也可以镀低辐射玻璃，还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定曲面的板上镀膜，且膜的附着力，膜厚的均匀性都明显改善，从而大大提高产品的质量。一种双端磁控溅射离子镀膜机，由真空室和传输机构组成，本实用新型的特征是真空室包括前、后锁室（１）、（７）、溅射区、压差室（４）和由溅射区隔离出来的隔离区，其中在压差室（４）和其前面的隔离区和前锁室（１）内设有加热装置（１１），在溅射区内设有溅射靶（１２）和偏压装置（１３），在前锁室（１）上开有入口，后锁室（７）上开有出口，在各个真空壁（１５）上设有穿越口。