技术简介：为以低成本方法同时对若干个截球体进行高质量镀膜，在一个截球体镀膜台内设有若干个镀膜室，它们经对称式气体管道系统与一个共用气体发生器相连，并经另一气体管道系统与一个共用真空泵相连。气体管道的横截面面积QA(X)和横截面形状QF#O&(X)在距气体发生器和真空泵的距离Ｘ处基本相同。所有的镀膜室可保证有相同的流动比率。气体管道系统可用精密管制成，或由一叠内有钻孔或铣槽形成气道的实心板构成。若干个截球体镀膜台构成一台设备。对带有介电膜系的截球形基质内表面，特别是带有冷光型镜面膜的反射器内表面镀膜的装置，包括一个镀膜室，该镀膜室由截球形基质和与该基质组合在边缘上并形成气密式连接的承受器部分所限定，一条进气通道和一条排气通道汇入承受器部分，该部分有一个具有一个或者若干通道的、用于限制待反应气体层的挤压体，该装置还包括在待反应气体层中激发等离子体区的设备，本发明的特征是，至少有两个镀膜室（１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ）并列构成一个截球体镀膜台（１），该截球体镀膜台通过气体管道和一台由全部镀膜室（１２ａ－ｄ）所共用的气体发生器（１４６）和一台共用的真空泵（９０）相连接，其中用于进气的气体管道各形成一个对称式气体管道系统（１７５，９５），与距气体发生器（１４６）和真空泵（９０）的距离（ｘ）相关的各气体管道的横截面面积Ｑ↓［Ａ］（ｘ）和横截面形状Ｑ↓［Ｆ］（ｘ）基本相同。