技术简介：本发明是有关一种宽温低铬酐镀铬添加剂及其制备，其特征在于由氟化稀土和氟硅酸钠混合组成，其制备工艺是按一定量的氧化稀土（镨钕富积物）进行溶解、沉淀、过滤洗涤、反应、研磨、再过滤洗涤、烘干，按比例１．５～２．３∶１加入氟硅酸钠经混合均匀即成。本发明电流密度范围为５～３０Ａ／ｄｍ2，电流效率高为２２％以上，温度范围为１７～５５℃，镀层一次合格率达９５％以上。降低废水中排铬含量６０～７０％，节水、节电。一种用于电镀液的镀铬添加剂，其特征在于所述的添加剂以氟化稀土和氟硅酸钠混合组成，其组成的含量％： 氟化稀土６０～７０ 氟硅酸钠３０～４０。